测，但在没有得到证实之前，都不敢相信。

时代IC制造，包括时代IC制造股份有限公司、时代IC制造（集团）有限公司、以及时代IC制造（京城）有限公司。

这三家公司各有特色，技术工艺水平、技术积累等等，放眼全球也都是排在前列的。

可以说，现在的情况是非正常的，是人为因素干扰的结果。

既然国际化分工协作已成了泡影，那么就只能自力更生。对于时代IC制造来说，就是能搭建起不受老M影响的自主生产线。

而28nm全国产化（去M化）生产线，就是一个转折点。

“没错，在座的已经有人猜到了结果。刚才魏小楼魏总打来电话，他告诉我，京城公司28nm（去M化）生产线已经顺利进入到风险量产阶段，各项技术指标良好，实现大规模量产指日可待。”

萧白环视了一圈，爆出了这个好消息。

等他说完，现场一片欢呼。时代IC制造虽然只是在28nm节点实现了自主可控，但其代表的意义却非同凡响。

这意味着有人想用IC卡死时代系，打断内地诸多企业产业升级的图谋，最起码是部分失败了。

当然，魏小楼他们的成功，只能保证时代系乃至内资企业大部分IC产品的供应，但依然解决不了高端IC的问题。

高端IC也就是先进制程IC，比如像手机用到的处理器IC等等，未来的主流制程将会突破到10nm以下。

在浦东微电子设备没有研制成功EUV光刻机之前，时代IC制造将会止步于7nm这个节点。

目前时代IC制造的最高技术水平，是时代IC制造股份有限公司的14nm制程工艺。立足于现有装备，魏建军他们利用双重曝光技术最多只能做到7nm。

魏小楼他们在理论上其实也可以做到7nm，就是利用28nm光刻机采用多重曝光，也是最高可以做到7nm的。

只不过，每多一次曝光会大幅增加生产费用，良品率也很难控制，从而带来生产成本的飙升。如果有得选择，在7nm这个节点最好是采用EUV光刻机一次曝光成型，最为经济适用。

所以说，双重曝光技术有一定的实用性，而多重曝光并不具有可操作性。

等到了7nm这个节点再往下，比如像5nm、3nm等等，是不能利用双重曝光技术在DUV光刻机上实现的。因为精度不够，必须要用深紫外光源才能解决这个问题。

“萧董，这可是一个特大喜讯！虽然我们在先进制程方面依然受制于人，但生存危机已经得到了极大的缓解。”

徐长青等大家议论了一阵子，笑着开口说道。

这个消息就像是一